ホーム ｜ 製品情報 ｜ 光応用装置 複雑で高精度、高清浄度が要求される半導体を製造する工程で、光源の専門メーカとして紫外線ランプを基本光源として、独自の技術を応用した装置を提供しています。 低圧水銀ランプによる紫外線をウエーハ・プロセスのウエーハに照射することによって、プロセス中に生じた電気的な消去・洗浄をして、素子の特性を改善します。 >> 詳細はこちら ウエーハ上のバンプの高さを測定する装置です。外観検査機能も整備されています。 >> 詳細はこちら 液晶製造工程で、TFTアレイ基板の製作から、カラーフィルターの製作工程に至るまで、広く紫外線ランプを応用した製品を展開しています。 液晶の製造工程において、パターン領域を露光した後に周辺の不要なフォトレジストの露光工程と、識別マークの露光工程を1台で処理できる画期的な装置です。 >> 詳細はこちら 液晶の製造工程において基板の周辺領域の不要なフォトレジストを、後工程に影響しないように露光する装置です。 >> 詳細はこちら 液晶の製造工程において、2次元コードにて表示されたIDを検出するユニットです。Windows専用です。 >> 詳細はこちら 高精度な平行光光源を搭載し、ガラス基板に非接触で且つ、高精度にアライメントを実行します。また、マスクとガラス基板の温度管理により高精細露光が可能な露光装置です。 >> 詳細はこちら 簡易プロキシミティギャップ露光又は、ソフトコンタクト露光を可能としながら、コストパフォーマンスに優れたガラス基板用露光装置です。ＴＮ及び、ＳＴＮ製造に最適です。 >> 詳細はこちら ビルドアップ基板、フレキシブル基板等超小型の電子部品を搭載、接続する高解像度の電子回路基板（プリント回路基板）の製造工程において、紫外線ランプを利用した露光、乾燥および洗浄工程で最先端の技術を展開しています。 電気的な絶縁を目的としたソルダーレジストが塗布された基板を安定して搬送し、高精度の露光を実現します。 >> 詳細はこちら 高性能の平行光光学系と、高機能なアライメント技術を備えて、細密な回路をパターンニングする露光装置です。 >> 詳細はこちら 安定した搬送技術とアライメント技術と光学系を組み合わせて、金属板や被膜に細線パターンを形成する露光装置です。 >> 詳細はこちら コンタクト方式の露光技術では形成できないハイレベルの回路を形成する、非接触式の高性能露光装置です。 >> 詳細はこちら 各種波長のランプと平行光、散乱光等露光に最適な光学系を装備した手動・半自動露光装置です。 >> 詳細はこちら CAMstationFX >> 詳細はこちら □全自動ダイレクト露光装置　DXP-3301 □ソルダ用ダイレクト露光装置　DXP-3502 □ダイレクト露光装置　DXP-3101 >> 詳細はこちら □LPP-3880 >> 詳細はこちら
		照射材料に最適なＵＶ光をコンベアで搬送しながら照射する装置です。 >> 詳細はこちら 狭い照射範囲へのＵＶ光の照射　小規模な照射実験等、各種のＵＶ照射灯具です。 >> 詳細はこちら 基板表面に残存する有機物にUV光を照射して、非接触で残存有機物を除去する装置です。 >> 詳細はこちら >> 詳細はこちら >> 詳細はこちら