露光装置:RDiシリーズ
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フレキシブル基板量産用として

  • 高度な位置合わせが要求されるフレキ基板、タッチパネル
  • ファインピッチ・フレキ基板、COF
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回路形成用 RDi-10 Duo

For circuit formation RDi-10 Duo

露光装置:RDi-10 Duo
特長
  • 2条流し対応により生産性を倍増(250mm幅x2本同時露光の場合)
  • 10μmの高解像性
  • 独自の技術により、20mクラスの長尺回路 パターニングにも対応
  • 高難度製品の「できる化」や歩留り改善など 導入効果はフィールドで実証済

2条流し露光

 

基材:FCCL 250mm幅ロール
L/S=15/15μm

 

基材:FCCL 250mm幅ロール
エッチング配線形成 曲線形成能力,PAD合わせ

回路形成用
RDi-MP/RDi-MP Duo

For circuit formation RDi-MP/RDi-MP Duo

 

露光装置:RDi-MP

  

 

露光装置:RDi-MP Duo
特長
  • ファインパターン形成用FDiの光学系を採用。露光モード切替機能搭載(※FDi参照)
  • RDi-MP Duoでは、ロール基材2条流しに対応
ソルダー形成用 RDi-80

For solder formation RDi-80

露光装置:RDi-80
特長
  • 光源にUVランプを搭載し、ソルダーレジストや感光性カバーレイの感光波長に対応
製品仕様

Specification

 光源有効露光サイズ基材幅解像性スループット総合重ね合わせ精度
RDi-10 Duo 半導体レーザ 635x520mm 250mm幅x2本流し(500mm幅x1本流しも可能) 10μm L/S 38秒/面 @30mJ MD:500mm 6μm
RDi-MP 半導体レーザ 515x260mm 250mm(※他要求応相談) 4μm L/S 45秒/面@55mJ MD: 515mm 3.5μm
RDi-MP Duo 半導体レーザ 515x590mm 250mm幅x2本流し(※他要求応相談) 4μm L/S 44秒/面 @50mJ MD:500mm 3.5μm
RDiー80 UVランプ 635x520mm 250/500mm 30μm L/S / Φ80μm 58秒/面@150mJ 69秒/面@200mJ MD:610mm 7μm

 

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