半導体製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に残る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接触で除去する装置です。基板にダメージを与えずに表面の洗浄と改質が出来ます。

• 基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い独自の低圧UVランプを搭載しています。
• 基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
• 基板はあまり加熱されません。
• オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。