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ホーム製品情報UV照射装置 | UV surface modifier (UV サーフェイス モディファ) シリーズ

光応用装置


UV surface modifier (UV サーフェイス モディファ) シリーズ

特殊無水銀UVランプより放射されるUV光(真空紫外光)によって、非接触で残存有機物を除去し、「表面改質」を行うシリーズです。

エキシマ照射装置 VUS-3100W エキシマ照射装置 VUS-3100-R
エキシマ照射装置
VUS-3100
エキシマ照射装置
VUS-3100-R
室内脱臭機能付き 器具除染用洗浄器 MCU-6030 ハンディエキシマ照射装置 VUE-3020-172
室内脱臭機能付き 器具除染用洗浄器
MCU-6030
ハンディエキシマ照射装置
VUE-3020-172

◆ 特 徴

従来の表面改質装置に対し、波長の短い真空紫外光を照射する(フォトンエネルギーが高い)ため、様々な化学結合を切断・分解する事ができます。また、短時間で同等の改質効果が得られます。
瞬時点灯が可能(安定時間が不要)ですので、処理時間の短縮と共にランプ交換周期の低減効果もあります。

◆ メカニズム

真空紫外線によりオゾン(O3)・活性酸素(O)が生成されます。
オゾンや活性酸素は非常に酸化力が強く、有機系の汚れなどは、二酸化炭素・水などに分解可能です。

◆ 表面改質(濡れ性の変化)


数分の照射で大幅に表面の濡れ性が改質されます。

※すべての材質に対して効果を保証するものではありません。使用環境・材質・表面状態等によって効果は異なります。

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