高端基板用

对应大尺寸基板：最大660x558mm

搭载高照度灯管：曝光时间减少25%

标准配备HEPA高效过滤器，底片／台面自动清洁机构

高生产性

• 采用ORC独自开发啊的的8kW短弧UV灯,实现了初期照度85mW/c㎡。和以前机器相比曝光时间减少了约25%

清洁对应（Class100）

• 在曝光部安装了HEPA高效过滤器，以最适宜的下落风速排除微细尘埃。同时加装了新开发的清洁机构，可排除底片,曝光台面的异物。

高解析度

• 依靠长期培育起来的ORC的光学技术，实现了干膜L/S12μm，防焊开窗50μm的高解析度。

高精度对位系统（重复对位精度±3μm）

• 采用ORC独自开发的对位用CCD摄像机，高性能镜头，复合照明系统，使靶点识别性能向上，实现了高精度对位。

分割曝光功能

• 可以按照基板的精度要求进行2/3/4/6分割对位，曝光。从而使分区的对位精度进一步得到提高。