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ハイエンド基板用

 

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大サイズワーク対応:最大660x558mm

高照度ランプ搭載:露光時間25% 短縮

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HEPA フィルタ、マスクフィルム/露光ステージのクリーニング機構を標準装備

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高生産性
    • ORC 独自開発の8kW ショートアークUVランプの搭載により、初期照度85mW/c㎡を実現。露光時間を弊社従来モデルより約25% 短縮しました。
クリーン対応(クラス100)
    • HEPAフィルターを搬送機構部と露光室に搭載。ダウンフローの最適化を図り、微細なパーティクルを排除します。また、新規開発のクリーニング機構により、マスクフィルム、露光ステージの異物を取り除きます。
高解像性
    • 長年培ってきたORC の光学技術により、ドライフィルムでL/S12μm、ソルダーレジストで開口径50μm の高解像力です。
高精度アライメントシステム(アライメント繰返し精度±3μm)
    • ORC 独自開発のアライメントカメラ用高性能レンズと照明系を採用しています。マーク認識精度の向上により、高い位置合せ精度が得られます。
分割露光機能
  • 製品の要求精度に合わせて2/3/4/6 分割での位置合わせ、露光が可能です。分割エリア毎のアライメントにより、総合重ね合わせ精度が向上します。
 
動画

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高解像性

High resolution

exp2031b-resol1

DFR:T25μm L/S12μm
ガラスマスク使用

exp2031b-resol2

SR:T25μm Φ50μm
ガラスマスク使用

高精度アライメント

High precision alignment

製品仕様

Specification

型式 EXP-2031B
標準サイズ
EXP-2031B
大サイズ
EXP-2031B
パッケージサイズ
基板サイズ MAX.635×535 mm ~ MIN.330×300 mm MAX.660×558 mm ~ MIN.330×300 mm MAX.535×419 mm ~ MIN.330×300 mm
基板厚さ 0.04 mm ~ 2.4 mm (銅箔含まず)
使用ランプ ソルダー用:8kw ショートアークUVランプ パターン用:4kw ショートアークUVランプ
有効照射域 610×510 mm 620×520 mm 533×419 mm
初期照度(最大) SR:85mW/c㎡
PT:35mW/c㎡
SR:63mW/c㎡
PT:35mW/c㎡
SR:92mW/c㎡
PT:35mW/c㎡
照度分布 94% 以上
位置精度 ±3 μm(繰り返し精度)
サイクルタイム 一括露光時:11.5 秒(真空時間2 秒含む)+露光時間
分割露光時:7.5 秒(真空時間2 秒含む)+露光時間×分割数+4 秒
装置外形寸法(本体) 4704(W) × 2745(D) × 2496(H) mm
装置重量 本体:約4800kg 別置ユニット:約1200kg

 

ラインナップ

 

製品のスペック比較はカタログにて

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