露光装置:PPS-8200p1/8300p1
head PPS8300 02
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支持各种应用

WL-CSP,IGBT,CIS等的 6/8/12 英寸光刻。

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  • 宽频谱光刻 (与菜单连动的 ghi线 gh线, i线的自动切换)
  • 搭载可变NA功能 (可变为0.16和0.1)
  • 最多8Field的拼接设计格式
  • 光学系统不受感光材挥发气体和周围环境中化学物质影响
 
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制品规格

Specification

型式 PPS-8200p1/8300p1
wafer尺寸 6/8/12 英寸
解像力 2.0 µmL/S(感光材厚2.0 µm)
NA(开口数) 0.16、0.1可变
缩小比 1:1
Field尺寸 52mm × 33mm
光刻波长 ghi-Line gh-line i-line(与菜单连动)
视野尺寸 6inch
重复对位精度 ≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
装置尺寸/重量 (W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg
主要特注选项规格 反面对位功能系统
晶圆边缘曝光
晶圆不曝光功能
薄晶圆搬送系统
GEM通信对应
在线对应

 

其他机型

 

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