고정도 SR용

워크 사이즈(표준 또는 대형)

광원 타입(산란광 또는 평행광)

위치 결정 정도 향상

• 기존기(EXP-2001B)에 비해 워크와 마스크의 위치 결정 정도가 대폭 향상되었습니다.

고출력 램프 채용

• 신규개발 고출력 램프를 사용함으로써, 노광 시간을 대폭 단축할 수 있게 되었습니다.

절차의 간략화

• 소각 glass의 경량화, 절차 정보의 레시피화 등, 당사 최신 기종과 같은 기구를 채용함으로써, 절차 시간의 단축을 실현했습니다.

대형 기판 대응(E타입)

• 업계 요구에 따라 최대 28.5"x24.5"까지의 대형 기판 대응 타입을 출시했습니다.

평행광원형

• 고정화에 대응하기 위해,평행광원 타입을 릴리스.
  고조도 Short arc UV 램프를 채용하여 생산성도 향상됩니다.